MPIA®(Micro Plasma Ion Analyzer)

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Superior stability, compact, high sensitivity

주로 CVD 공정 시 공정 배기 가스라인에 장착되어, Self Plasma를 일으켜서 배기 가스를 실시간 분석 하는 시스템 입니다. 프라임솔루션의 MPIA는 뛰어난 안정성 , 초소형 사이즈, 고감도 구현 등 한층 진보된 오염 방지 기술이 적용 되어 양산라인에 적용 중인 제품으로 어떠한 작업 현장에도 쉽게 설치할 수 있으며 관리가 용이한 장점 및 운영 SW(SCM)의 다양한 기능을 통한 사용자의 효과적인 공정 관리 가 가능한 제품입니다.

MPIA는 SCM S/W를 이용한 가스분석으로 수율 극대화와 장비 DOWN시간의 최소화를 가능하게 합니다. 차세대 SMART 센서, SPOES의 오염관련 문제를 해결한 MPIA 입니다.

mpia

MPIA® Advantages

  • Strong anti contamination
  • The smallest size
  • Strong plasma intensity
  • High Sensitivity
  • Simulation Function – Raw Data reprocess

MPIA® Applications

  • Leak Detection
  • Fault Detection
  • Optimization of Cleaning/Seasoning time
  • Abnormal Chemical Status (in Real Time)
  • First wafer effect & Process Drift

Smart Sensor Operation SW (SCM™)

  • Remote Control & Monitoring(Office Access)
  • Interface with EQ or FAB FDC(Host)
  • SW Flexibility for Adding Sensors
  • Feed back to EQ in real time by Pre-defined cases
  • Easy Way for Long Term data(DB)
  • Various Analysis
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MPIA® VS SPOES Differences

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MPIA® & SPOES Contamination Test

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MPIA® & SPOES Contamination

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Model BitOn-5000 BitOn-5000 BitOn-5000 BitOn-4500
BitOn-5000AD
Type Normal LP HP Discontinued
Operation Pressure 5mTorr ~ 10mTorr 1mTorr ~ 10Torr 3Torr ~ 10Torr
Application TEOS
ALD
W
Ti/TiN
ACL
SIO2
TEOS
ALD
W
Ti/TiN
ACL
SIO2
TEOS
ALD
W
Ti/TiN
ACL
SIO2
Customer Semiconductor & Display
Sale On Sale On Sale On Sale End of sales

Pumping period (Fore Line GAS Build up Issue)

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First Wafer Effect Detection & Continuous Process Lot trend

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Lot wafer Summary - Process Step Trend (A Specific Wavelength)

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